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【赣南培养】露地西瓜怎么培养好?

点击次数:   更新时间: 2023-11-05 来源:半岛体肓aPP下载关闭

  露地西瓜是我国遍及选用的一种西瓜培养办法,耕种帮在此主张露地西瓜在培养时选用地膜掩盖,这样做才可以显著地促进西瓜根系和蔓叶成长,提前开花结果,比不选用地膜掩盖的提前10~15天上市,一起产值也能添加20%~30%。

  地膜的透光性好,好,且具有不透气性,因而运用适合的地膜掩盖可起到进步地温、保墒防涝、改进土壤结构、早熟增产、防除杂草、减轻病虫害产生、改进近地上小气候等积极作用。

  地膜的种类许多,在西瓜培养上选用较多的是无色通明膜,但因为各种有色地膜的呈现及遍及,增温、防除杂草作用更好的黑色地膜运用约束规模也在逐步扩展。

  1.无色通明地膜:这种地膜在农业培养上广泛运用,透光性好,光透过率可到达80%~93.9%(水滴、尘埃、泥土污染会影响其透光率)。这种地膜一般可使土壤耕层温度进步2~4℃。

  2.银灰色地膜:这种地膜呈银灰色,反光性强,故能增强地上光照,特别是还具有驱避蚜虫的作用,然后减轻病毒病损害,成为驱蚜虫专用膜。西瓜生产中掩盖这种地膜能削减植株上的蚜虫数量,并使蚜虫产生期向后推延,起到避病作用。但后期西瓜封行后,驱避蚜虫的作用会下降。

  3.黑色地膜:这种地膜是在聚乙烯树脂中参加2%~3%的炭黑制成的,呈黑色,透光率极低,个有遮光作用。其增温作用不如无色通明膜,自身能吸收太阳光热。春季用黑色地膜掩盖,一般可使土壤增温1~3℃,但薄膜自身常因吸收太阳光热,却不简单将热量传给土壤而软化。黑色膜能有很大作用防备土壤水分蒸腾和按捺夏日杂草成长。

  4.杀草地膜:这种地膜是将除草剂和聚乙烯树脂混炼吹塑而成的专用膜。膜的一面含有除草剂,运用时膜内的除草剂便溶解在土壤水蒸气中,当水蒸气遇冷时凝成水滴,滴落在畦面上,构成一层药剂处理层,能杀死刚萌生的杂草幼芽。杀草膜除草比较省工,并且作用好而耐久。但西瓜对一些除草剂较为灵敏,一定要考虑西瓜对除草剂的挑选性,严厉挑选适用的杀草膜,并应先进行小面积实验后再大面积推行运用。

  因各地的温度、湿度、土质、风力等气候特征状况差异很大,培养办法不一样,所以掩盖地膜的办法有较大的不同。

  1.一般平畦掩盖法:这种是最基本的掩盖办法。先将瓜畦做成中心拱起呈龟背形高畦,后将地膜打开,呈条幅式水平铺盖于瓜畦畦面。畦面高度及盖幅宽度因区域而异。北方区域,西瓜成长期正值干旱少雨时节,畦高10厘米即可。阴湿多雨区域可选用20~25厘米的高畦培养。多雨区域宜选用幅宽100厘米以上的地膜,最好掩盖全畦,以利旱季防涝及伏旱时节保墒。干旱区域,为灌水便利,幅宽宜为60~80厘米。

  平畦掩盖简洁省工,适用于降水量少、春季多风的区域及土壤保墒性差的地块。缺陷是受光面积小、增温作用差,不利于旱季排水防涝。

  2.遮天盖地法:此办法做畦与一般相同,畦做好后,直接掩盖一层地膜,幅宽70~80厘米。然后将竹条弯成弓形或半圆形,顺瓜行插成支架,成小拱棚状。上扣1.2米幅宽、0.015毫米厚一般通明地膜,棚高30~50厘米,宽40~50厘米。

  这种掩盖办法升温快,10厘米地温较一般式均匀高2~3℃,因而可早播5~8天,提前老练10天左右。但保墒性稍差,有必要及时洒水,且易繁殖杂草,应及早防除。一起,因为地膜很薄,抗风、抗拉才能较塑料棚膜差,掩盖空间较小,小,气温较高时易灼伤瓜苗,应当令撤消。一般终霜往后10~15天,即栽植20~25天,瓜苗4~5片线厘米左右时撤棚较好。

  选用地膜掩盖的露地西瓜上市期较设备培养西瓜晚,价格偏低,因而不宜选用产值较低的早熟种类,而应选用增产潜力较大、产值较高的中熟良种。尤应挑选习气当地的自然条件、食用习气、抗逆性较强及大中果型、高产、优质、耐贮运种类。可选用豫艺甜宝、绿之秀、新机遇、龙卷风、新墨玉、台湾黑宝等中熟种类。

  培养西瓜应挑选旱能洒水、涝能排水、土质较肥美的沙壤土,最好表层为沙土,底层为壤土,兼有沙土与黏土的长处。若土壤偏黏,可冬翻深耙,增施有机肥,瓜沟压沙、掺沙等进行土壤改进;若土壤过沙,易漏水、漏肥,应加强后期肥水办理。地块最好是背风向阳、温暖、墒好、地形陡峭,以利西瓜早熟丰登。

  瓜田在上年秋作收成后,当即深耕,使土壤充沛风化、疏松并积储很多雨雪,进步保水透水才能,为西瓜根系发育制作良好条件。早春冻结后耕耙一次,整平土地。耕种或定植前15~20天,在瓜田按行距1.7米左右挖瓜沟,又称丰登沟,掘地松土宽40厘米,深30厘米,将15厘米深表土挖出放在顺风的一边,下面15厘米底土挖出放在顶风方向一边。再将沟底土壤挖活,不用挖出。暴晒数日后回填,先将表土填入沟底,再将丰登沟两边、两沟间表土起出一层填入丰登沟中,填满稍多,耙平、

  北方区域为便利干旱灌溉,畦面多与地上相等或略高于地上8~10厘米,并分成大、小两个畦。小畦即瓜畦,宽60~70厘米,起垄成龟背形,垄面与垄沟高差10厘米;大畦即串蔓畦,宽130~140厘米,用于西瓜爬蔓,畦面高与瓜畦垄面相等,以利灌水。

  选用地膜掩盖培养西瓜可以育苗移栽,也可以直接进行直播(育苗移栽比直播早熟)。西瓜一般在在16℃时开端发芽,所以各地早春地膜掩盖培养直播的适期应为麦苗出土时,刚好当地终霜期已过,气温稳定在15℃左右,以防出苗后瓜苗遭受霜害。露地培养西瓜一般在3月中、下旬耕种育苗,4月中、下旬定植,6月下旬开端收成上市。

  西瓜归于喜光性作物,适合的培养行距是1.5~2米,株距0.5~0.7米,间作套种的株、行距可适当加大。

  西瓜培养过稀,会形成地力的糟蹋,漏光丢失严峻,西瓜稀植尽管单株产值或许进步,但集体产值下降;如培养过密,西瓜叶片堆叠,基层叶片简单过早枯黄掉落,植株长势削弱,单株产值下降,小果份额添加,尽管集体产值或许稍有进步,但商品率和质量下降。

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